Распространенные нанотехнологические процессы и производители RFID-чипов

Технология RFID (радиочастотная идентификация) стала неотъемлемой частью современной производственной и логистической отрасли. RFID-чип является одним из ключевых компонентов для внедрения технологии RFID. Он может хранить и передавать данные, предоставляя осуществимые решения для многих сценариев применения. В этой статье мы рассмотрим общие производственные процессы и производителей RFID-чипов.

В настоящее время на рынке представлены следующие основные шкалы нм-процессов RFID-чипов:

180-нм процесс, 110-нм процесс, 90-нм процесс, 65-нм процесс.

180-нм процесс. 180-нм процесс в настоящее время является наиболее широко используемым масштабом процесса чипов RFID и подходит для низкочастотных (НЧ), высокочастотных (ВЧ) и некоторых UHF (ультравысокочастотных) чипов RFID. По сравнению с 350-нм процессом, 180-нм процесс имеет более высокую интеграцию, меньший размер, большую емкость чипа, более зрелый контроль процесса и более стабильную производительность.

110-нм процесс. 110-нм процесс был одним из основных масштабов процесса чипов RFID в последние годы и может использоваться для производства высокочастотных (ВЧ) и UHF (ультравысокочастотных) чипов RFID. Процесс характеризуется меньшим размером, меньшим энергопотреблением, более высокой скоростью, большей емкостью и более высокой безопасностью и стабильностью. Однако из-за более высоких производственных затрат цена его чипов соответственно увеличится по сравнению с чипами 180-нм процесса.

90-нм процесс. 90-нм процесс в настоящее время является одним из передовых масштабов процесса в производстве чипов RFID и в основном используется для производства высокопроизводительных чипов UHF (сверхвысокочастотных) RFID. Чипы, произведенные этим процессом, имеют более высокую интеграцию, меньший размер, большую емкость и скорость чипа, могут обеспечить более надежную защиту и конфиденциальность и могут применяться в большем количестве сценариев применения.

65-нм процесс. 65-нм процесс является новейшим масштабом процесса для чипов RFID и представляет собой передовую технологию процесса. По сравнению с процессами 110 нм и 90 нм, 65-нм процесс имеет меньший размер, более высокую скорость, меньшее энергопотребление и более высокую интеграцию. Он может обеспечить больше функций и более богатые сценарии применения в интеллектуальной транспортировке и логистике. Он имеет широкие перспективы применения в розничной торговле и других областях.

Итак, какой тип фотолитографической машины используется для изготовления чипов RFID? Чипы RFID не предъявляют высоких требований к передовым нанометровым процессам, поскольку их функции просты. В отличие от высокоточных чипов, используемых в видеокартах и мобильных телефонах, это относительно простые типы чипов. Поэтому литографические машины, обычно используемые при производстве чипов RFID, в основном представляют собой традиционные литографические машины NL и литографические машины DUV. Традиционная литографическая машина NL — это литографическая машина, обычно используемая при производстве полупроводниковых пластин. Она использует источник ультрафиолетового света для освещения полупроводниковой пластины с целью формирования специфичного для чипа рисунка фоторезиста через светопропускающую часть в фотошаблоне. Этот тип литографической машины подходит для производства чипов большего размера и низкого разрешения. Литографическая машина DUV (Deep Ultraviolet Light) использует свет с более короткой длиной волны, что может обеспечить более высокое разрешение и меньший размер элемента. Литографические машины DUV могут использоваться для производства высокоплотных, высокоточных и высоконадежных RFID-чипов.

пластина

Сейчас на рынке много производителей RFID-чипов.

NXP Semiconductor: NXP Semiconductor является одним из ведущих мировых поставщиков RFID-чипов, и компания занимает большую долю рынка. RFID-чипы NXP охватывают низкочастотные (НЧ), высокочастотные (ВЧ) и сверхвысокочастотные (СВЧ) чипы. Ранние масштабы процесса составляли 350 нм и 180 нм, а теперь основные производственные масштабы компании составляют 90 нм и 65 нм. Технические характеристики и функции чипа очень обширны, включая низкочастотные (НЧ), высокочастотные (ВЧ) и сверхвысокочастотные (СВЧ) чипы RFID, подходящие для различных сценариев применения.

Texas Instruments (TI): Texas Instruments — ведущая компания по проектированию и производству полупроводников, занимающая важное положение в области чипов RFID. Чипы RFID, производимые TI, охватывают низкие частоты (НЧ), высокие частоты (ВЧ) и сверхвысокие частоты (СВЧ) и включают множество гибридных прикладных решений. Ее начальный масштаб процесса составляет 180 нм, а ее текущие основные масштабы процесса — 90 нм и 65 нм.

Литография

Impinj: Impinj — это компания, которая специализируется на предоставлении решений UHF RFID, а также является лидером на рынке чипов UHF. RFID-чипы Impinj могут применяться в проектах, связанных с крупномасштабной инфраструктурой.e, цепочка поставок, логистика и другие области. Impinj в основном использует технологию CMOS, а ее масштаб процесса в основном составляет 130 нм и 90 нм.

Fudan Microelectronics. Это одна из известных компаний по проектированию полупроводников в Китае, которая специализируется на исследованиях и разработках, проектировании и производстве микрочипов и микроэлектронных систем. Компания накопила богатые технологии и опыт производства полупроводников за почти 30 лет. В настоящее время основные нм-процессы, используемые Fudan Microelectronics в чипах RFID, составляют 65 нм и 130 нм. Как передовые технологические процессы, оба масштаба процесса могут обеспечить такие преимущества, как более высокая интеграция, меньший размер, более высокая скорость работы, меньшее энергопотребление и более высокая надежность.

С постоянным развитием технологий процесса все больше и больше чипов RFID начинают использовать усовершенствованный 65-нм процесс, который может обеспечить больше функций и более широкий спектр сценариев применения. Аналогичным образом компании-производители чипов постоянно переходят на более продвинутые масштабы процесса, чтобы непрерывно улучшать производительность и функциональность чипов.